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2014-16年新型顯示產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展行動計(jì)劃
編輯:雁楓 [ 2014-10-20 10:41:13 ] 文章來源:數(shù)字標(biāo)牌網(wǎng)
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內(nèi)容導(dǎo)航:

2014-16年新型顯示產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展行動計(jì)劃

    新型顯示是信息產(chǎn)業(yè)重要的戰(zhàn)略性和基礎(chǔ)性產(chǎn)業(yè)。加快新型顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展對促進(jìn)產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)優(yōu)化調(diào)整,實(shí)施創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略,推動經(jīng)濟(jì)提質(zhì)增效升級具有重要意義。近年來,通過《2010-2012年平板顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》實(shí)施,我國顯示產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)跨越式發(fā)展,成為全球顯示產(chǎn)業(yè)的重要力量。未來幾年,全球顯示產(chǎn)業(yè)格局和競爭態(tài)勢將發(fā)生深刻變化。一方面,隨著我國面板產(chǎn)能逐步釋放,全球顯示產(chǎn)業(yè)競爭日趨激烈;另一方面,新型顯示技術(shù)發(fā)展日新月異,孕育重大突破和變革。我國新型顯示產(chǎn)業(yè)已進(jìn)入發(fā)展的攻堅(jiān)期和深水區(qū),需著力解決投資主體相對分散與產(chǎn)業(yè)資源集聚、依靠成熟技術(shù)滿足當(dāng)前需求與前瞻性技術(shù)布局、產(chǎn)業(yè)規(guī)模迅速擴(kuò)張與質(zhì)量效益提升之間的不協(xié)調(diào)、不平衡問題。
    根據(jù)《國務(wù)院關(guān)于加快培育和發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)的決定》、《國務(wù)院關(guān)于促進(jìn)信息消費(fèi)擴(kuò)大內(nèi)需的若干意見》,為引導(dǎo)產(chǎn)業(yè)健康有序發(fā)展,特編制《2014-2016年新型顯示產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展行動計(jì)劃》。
    一、總體要求
    (一)發(fā)展思路
    緊緊圍繞使市場在資源配置中起決定性作用,更好發(fā)揮政府宏觀調(diào)控作用,把握新型顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展機(jī)遇,強(qiáng)化產(chǎn)業(yè)有序布局,加快關(guān)鍵共性和前瞻性技術(shù)突破,完善產(chǎn)業(yè)配套體系,促進(jìn)優(yōu)勢資源集聚,提升發(fā)展質(zhì)量和效益,推動新型顯示成為新一代信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的重要支撐。
    突出市場作用。營造良好政策環(huán)境,規(guī)范市場秩序,強(qiáng)化監(jiān)督管理,提升資源配置水平和效率,避免重復(fù)投資和無序競爭。
    引導(dǎo)集聚融合。依托已有產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),加強(qiáng)科學(xué)規(guī)劃,完善現(xiàn)有產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)布局和配套產(chǎn)業(yè)鏈建設(shè),推動垂直整合和橫向合作,打造具備國際競爭力的產(chǎn)業(yè)集群。
    加強(qiáng)技術(shù)創(chuàng)新。完善企業(yè)為主體、產(chǎn)學(xué)研相結(jié)合的技術(shù)創(chuàng)新體系,突破關(guān)鍵技術(shù)瓶頸,布局前沿顯示技術(shù),加強(qiáng)知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)和人才培養(yǎng),形成核心競爭力。
    提升開放水平。深化雙邊、多邊、區(qū)域合作機(jī)制,實(shí)施更加積極主動的開放戰(zhàn)略,鼓勵企業(yè)“走出去”,充分利用國際國內(nèi)兩種資源、兩個(gè)市場,提高國際合作質(zhì)量與水平。
    (二)發(fā)展目標(biāo)
    到2016年,產(chǎn)能利用率保持合理水平,產(chǎn)品結(jié)構(gòu)不斷優(yōu)化,行業(yè)資源環(huán)境效率顯著提高,按面積計(jì)算出貨量達(dá)到世界第二,全球市場占有率超過20%,產(chǎn)業(yè)總體規(guī)模超過3000億元。
    顯著增強(qiáng)創(chuàng)新能力。全面掌握低溫多晶硅(LTPS)/氧化物(Oxide)液晶顯示器(LCD)和有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管(AMOLED)技術(shù),導(dǎo)入量產(chǎn)后年產(chǎn)能分別達(dá)到500萬平方米、40萬平方米。在全息、激光、柔性等顯示技術(shù),以及新型顯示材料領(lǐng)域取得部分技術(shù)突破。專利累計(jì)申請總量達(dá)到20000項(xiàng),海外專利占比10%,基本完成專利布局。
    明顯提升發(fā)展質(zhì)量。建成以骨干面板企業(yè)為核心、配套產(chǎn)業(yè)鏈相對完備的新型顯示產(chǎn)業(yè)集群。力爭有2家骨干面板企業(yè)銷售收入超過300億元、生產(chǎn)規(guī)模和市場競爭力進(jìn)入全球前6位。產(chǎn)業(yè)垂直整合和橫向合作取得實(shí)質(zhì)性進(jìn)展,經(jīng)濟(jì)效益顯著增強(qiáng),資源利用水平明顯提升,形成內(nèi)生增長機(jī)制。
    基本建成配套體系。支持內(nèi)外資企業(yè)互利合作,依托國際資源,共建產(chǎn)業(yè)鏈配套體系,初步實(shí)現(xiàn)上游裝備、材料的規(guī);a(chǎn)能力。裝備種類覆蓋率超過40%,材料種類覆蓋率超過80%。中小尺寸薄膜晶體管液晶顯示(TFT-LCD)面板制造關(guān)鍵材料配套率達(dá)到60%,大尺寸TFT-LCD以及AMOLED面板制造關(guān)鍵材料配套率達(dá)到30%。
    二、重點(diǎn)任務(wù)
    (一)加強(qiáng)規(guī)劃布局,引導(dǎo)集聚發(fā)展
    引導(dǎo)產(chǎn)業(yè)區(qū)域集中發(fā)展和投資主體集聚,重點(diǎn)支持有條件、有基礎(chǔ)的企業(yè)在北京、長三角、珠三角等產(chǎn)業(yè)聚集地發(fā)展,形成具備較強(qiáng)競爭力的區(qū)域產(chǎn)業(yè)集群。根據(jù)市場容量合理確定產(chǎn)能發(fā)展目標(biāo),防范盲目建設(shè)和低水平重復(fù)建設(shè)。鼓勵骨干企業(yè)通過投資、兼并等方式整合已有產(chǎn)業(yè)資源,引導(dǎo)投資主體進(jìn)一步集中。實(shí)施差異化財(cái)稅政策,從普惠向集約支持轉(zhuǎn)變。鼓勵具有自主高世代背板生產(chǎn)技術(shù)的企業(yè)和在AMOLED領(lǐng)域有產(chǎn)業(yè)化基礎(chǔ)的企業(yè)在集聚區(qū)內(nèi)建設(shè)新型顯示面板項(xiàng)目,其他地區(qū)可根據(jù)自身產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)配合產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)發(fā)展配套產(chǎn)業(yè)。
    (二)實(shí)施技術(shù)創(chuàng)新,加快前瞻布局
     支持骨干企業(yè)創(chuàng)新能力建設(shè),積極開展關(guān)鍵核心技術(shù)聯(lián)合研發(fā)、專利運(yùn)營、標(biāo)準(zhǔn)制訂等工作,建立重點(diǎn)企業(yè)專利成果共享機(jī)制。以專項(xiàng)資金為引導(dǎo),吸引社會資金共同投入,組建國家級新型顯示技術(shù)創(chuàng)新平臺。推動企業(yè)加速掌握LTPS和Oxide背板規(guī)模生產(chǎn)技術(shù),推動TFT-LCD向高分辨率、低功耗、窄邊框等方向發(fā)展,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)調(diào)整。突破AMOLED背板、蒸鍍和封裝等關(guān)鍵工藝技術(shù),實(shí)現(xiàn)AMOLED面板量產(chǎn)和柔性顯示等新型應(yīng)用。強(qiáng)化前瞻技術(shù)研究,布局全息、激光等顯示技術(shù)以及碳基、量子點(diǎn)等新型顯示材料領(lǐng)域。
    專欄1 技術(shù)躍升行動
    AMOLED制備技術(shù)
    提升小尺寸LTPS-AMOLED產(chǎn)品性能,實(shí)現(xiàn)5寸以上產(chǎn)品量產(chǎn),開發(fā)適用于大尺寸AMOLED器件的高遷移率、高穩(wěn)定性O(shè)xide背板,實(shí)現(xiàn)55寸以上產(chǎn)品小批量生產(chǎn),推動高性能發(fā)光材料、精細(xì)金屬掩模板(FMM: Fine Metal Mask)、發(fā)光器件結(jié)構(gòu)等關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān),掌握長壽命、高效率AMOLED器件生產(chǎn)工藝,促進(jìn)成膜工藝、紫外固化工藝等共性技術(shù)的探索與驗(yàn)證,完成低水氧透過率、高均勻性、長壽命封裝材料和技術(shù)的開發(fā)與應(yīng)用。
    前瞻顯示
    技術(shù)
    推動柔性基板、低溫半導(dǎo)體背板、薄膜封裝、柔性器件等核心技術(shù)的開發(fā),完成量產(chǎn)技術(shù)儲備,開發(fā)10寸以上柔性顯示器件。開展激光光源性能提升、激光干涉噪音抑制、激光顯示總體集成等核心技術(shù)攻關(guān),實(shí)現(xiàn)激光顯示的規(guī);瘧(yīng)用。通過碳材料、量子點(diǎn)在觸控、顯示等方面的應(yīng)用探索,攻克主要技術(shù)難點(diǎn)和工藝細(xì)節(jié),掌握相關(guān)知識產(chǎn)權(quán),完成技術(shù)儲備,制定發(fā)展路線圖。
    高性能TFT-LCD制備技術(shù)
    推動準(zhǔn)分子激光晶化、離子注入、退火等關(guān)鍵技術(shù)開發(fā),掌握高性能、高均勻性LTPS背板工藝技術(shù),實(shí)現(xiàn)400PPI以上高分辨率產(chǎn)品的規(guī)模量產(chǎn)。解決大尺寸Oxide背板均勻性問題,實(shí)現(xiàn)55寸以上高性能、低成本產(chǎn)品的小批量生產(chǎn)。完成高開口率新型像素設(shè)計(jì)、高效補(bǔ)償和驅(qū)動技術(shù)的開發(fā),結(jié)合背光源效能提高和新型低阻材料應(yīng)用,提升高分辨率、低功耗、超窄邊框等性能,實(shí)現(xiàn)4K2K超高分辨率產(chǎn)品穩(wěn)定量產(chǎn),完成8K4K顯示技術(shù)儲備。
    (三)完善產(chǎn)業(yè)配套,提升供給水平
    進(jìn)一步完善新型顯示產(chǎn)業(yè)鏈,提高關(guān)鍵材料及設(shè)備的配套水平,加快形成自主發(fā)展能力。支持企業(yè)突破高世代玻璃基板和掩模板、OLED發(fā)光材料等關(guān)鍵材料技術(shù),開發(fā)5.5代及以上蒸鍍、成膜、激光退火等關(guān)鍵設(shè)備。堅(jiān)持面板企業(yè)與配套企業(yè)并重發(fā)展,鼓勵面板企業(yè)與配套企業(yè)通過多種合作方式,結(jié)合AMOLED等新一代顯示技術(shù)工藝研發(fā),共同開發(fā)關(guān)鍵設(shè)備和材料。發(fā)揮骨干面板企業(yè)對產(chǎn)業(yè)鏈帶動作用,引導(dǎo)面板企業(yè)加強(qiáng)橫向合作,對上游產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)互信互認(rèn),鼓勵面板企業(yè)加大本地材料和設(shè)備的采購力度。
    專欄2 產(chǎn)業(yè)鏈提升行動
    關(guān)鍵材料
    玻璃基板
    推動AMOLED及高世代TFT-LCD玻璃基板的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化,實(shí)現(xiàn)大尺寸玻璃基板的生產(chǎn)。開發(fā)0.4mm及以下厚度的玻璃基板產(chǎn)品,研發(fā)高耐熱性能玻璃基板產(chǎn)品。
    有機(jī)發(fā)光材料
    推動AMOLED高性能、長壽命有機(jī)發(fā)光、電子傳輸和空穴注入材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。標(biāo)準(zhǔn)亮度下,藍(lán)光主體材料T95壽命大于200小時(shí);電子傳輸材料驅(qū)動電壓低于4.5 V。
    液晶
    推動高世代線TFT-LCD面板制備所需的高性能混合液晶材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化,形成年產(chǎn)IPS、VA、PSVA型液晶100噸以上的生產(chǎn)能力。
    驅(qū)動芯片
    推動滿足超高分辨率、窄邊框、低通道數(shù)、新接口技術(shù)要求的驅(qū)動芯片研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化。
    高純氣體及化學(xué)品
    推動高純度(99.999%以上)氨氣、硅烷、氯氣、四氟化鈦氣體及顯影液、蝕刻液、酸性化學(xué)試劑等電子化學(xué)品的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。
    靶材
    推動高純度鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、銅(Cu)等金屬靶、氧化銦錫(ITO)靶材、氧化銦鎵鋅(IGZO)靶材的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。
    金屬
    掩模板
    推動6代以上透過式掩模板及5.5代以上FMM產(chǎn)品的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。
    OLED設(shè)備
    推動5.5代及以上AMOLED成膜用蒸鍍設(shè)備、PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)設(shè)備、Sputter(磁控濺射)設(shè)備、準(zhǔn)分子激光退火設(shè)備的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。
    及設(shè)備設(shè)計(jì)系統(tǒng)
    推動EDA工具、CIM自動化系統(tǒng)的研發(fā),拓展其在顯示產(chǎn)品生產(chǎn)制造中的應(yīng)用。


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